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KLA-Tencor 宣布推出新型光罩檢測系統
- 今天，KLA-Tencor 公司針對 10 納米及以下的掩膜技術(shù)推出了三款先進(jìn)的光罩檢測系統，Teron? 640、Teron? SL655 和光罩決策中心 (RDC)。所有這三套系統是實(shí)現當前和下一代掩膜設計的關(guān)鍵，使得光罩廠(chǎng)和集成電路晶圓廠(chǎng)能夠更高效地辨識光刻中顯著(zhù)并嚴重損害成品率的缺陷。 利用創(chuàng )新的雙重成像技術(shù)，Teron 640 檢測系統為光罩廠(chǎng)提供了必要的靈敏度，對先進(jìn)的光罩進(jìn)行準確的品質(zhì)檢驗。Teron SL655 檢測系統采用全新的 STARlightGol
- 關(guān)鍵字： KLA-Tencor SL655
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